Новая технология нанопечати чипов от Canon и DNP

Осенью прошлого года Canon передала Intel установку для производства чипов с использованием нанопечати. Эта инновационная технология призвана снизить затраты на оборудование для 5-нм чипов и уменьшить энергозатраты. DNP предложила новый материал для изготовления 1,4-нм чипов, который позволит формировать матрицы для травления на кремниевых пластинах. По планам, массовое производство этих материалов начнется в 2027 году. Использование нанопечати может уменьшить потребление электроэнергии на 90 % по сравнению с традиционными методами, которые требуют мощных лазеров. Установка для нанопечати стоит около $6,4 млн, что значительно дешевле, чем сканеры ASML для 2-нм чипов. Несмотря на интерес таких компаний, как Samsung, TSMC, Micron и Kioxia, переход на новую технологию требует уверенности в ее перспективах. Canon и Nikon когда-то доминировали на рынке литографии, но теперь уступили его ASML, контролирующей 90 % рынка. Fujifilm Holdings также планирует заняться производством материалов для нанопечати.